光刻机在国网的一条消息中提到了上海微电子、华为等令中国人振奋的字眼。据该消息透露，上海微电子正在研发28纳米浸没式光刻机，预计将在2023年年底交付市场。同时，国家知识产权局也公布了华为的一项新专利，表示在极紫外线光刻机核心技术上取得了突破性进展。

(资料图片)

这条消息对于那些“美吹“华为黑”的人来说，可能让他们难过得想撞墙。自从美国将华为和中国半导体产业列为科技战重点打击对象后，他们一直在舆论场上吹嘘芯片技术的“卡脖子”有多难突破，试图让我们不再干这个。

对于芯片技术来说，他们最爱谈论的就是光刻机。他们把光刻机称为“半导体工业皇冠上的明珠”，说它有10多万个零件，是集中“全人类智慧的结晶”，认为中国人不可能靠自己突破这个难题。

我们也承认，光刻机技术的突破确实非常艰难，我们需要虚心向其他发达技术国家学习。但是，我们对一些所谓的专家学者不满的地方是，他们总是贬低中国人突破的技术难题，认为“中国人不可能突破光刻机技术”等。他们好像站在洋人一边就可以高人一等。

其实，光刻机技术并不是什么高不可攀的新东西，我们中国人曾经也是世界“第一梯队”。

在1965年，中国就研制出了65型接触式光刻机，1985年研制出了分步光刻机样机，与国外先进水平差距不超过7年。改革开放后，我们开始从国外购买光刻机，导致我们的企业逐渐掉队。

当然，这并不意味着国家没有投入，只是当时我们的国力不足以支持。我们不能用今天的眼光来看待那个时期的历史。而如今，国家对半导体产业的支持有所增加，这也给了我们一个突破的机会。

另外，阿斯麦光刻机虽然集成了多国先进技术，但并不意味着它无法被超越。

他们的主要供应国家只有德国、法国、日本、美国等不超过10个国家，总人口不过几亿。一个拥有14亿人口的中国，是全球制造业老大，我们有什么道理做不出光刻机呢？

无论从哪个角度来看，我们都应该对中国突破半导体技术持有信心。中国半导体行业协会副理事长于燮康表示，尽管我们面临技术挑战，但国内市场的快速增长为产业升级提供了机遇。

作为半导体行业的人，于副理长的话既客观又符合辩证法，这才是理性的态度。随着美国对中国半导体技术设限的影响，我们有理由相信中国企业会在不久的将来取得突破。

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